摘要

射频磁控溅射法制备ZnO纳米薄膜的光学性质研究

作者(年代):B.Khalfallah, F.Chaabouni, M.Abaab

采用射频磁控溅射技术在室温下在玻璃衬底上沉积氧化锌薄膜。研究了厚度对ZnO薄膜结构、形貌和光学性能的影响。用干涉条纹法计算薄膜厚度，厚度范围为360 ~ 680 nm。晶粒尺寸为26 ~ 29 nm，对应于纳米结构薄膜。研究了不同厚度下的应力值。在研究的厚度范围内，薄膜的均方根粗糙度从3.3 nm增加到12.2 nm。薄膜在可见光区平均透过率约为85%。随着薄膜厚度的增加，ZnO薄膜的光学带隙从3.37 eV减小到3.09 eV。用Cauchy模型、Wemple-Didomenico模型和Spitzer- fan模型研究了折射率色散和介电常数。结果表明，其光学性质与结构性质高度相关。 The obtained films can be used as transparent electrodes in solar cells.