摘要

掺铟氧化镉薄膜的结构、光学和电学性能

作者(年代):Nadir F.Habubi, Ramiz A.Al-Anssari，济南Ali Abd

以不同浓度的铟(2Â - 8 wt%)为喷雾溶液，在玻璃衬底上喷雾热解制备了导电透明掺铟CdO薄膜。利用光学透射、x射线衍射和原子力显微镜研究了掺杂铟和未掺杂CdO薄膜的光学和结构性质。x射线分析表明，掺杂和未掺杂的CdO薄膜优先沿(111)晶体方向定向。铟掺杂浓度的增加增加了薄膜的堆积密度，使晶体沿(11 11 1)方向重新定向。随着波长的减小，所有薄膜的光传输量都有所下降。随着In掺杂水平的增加，CdO薄膜的透射率增加。CdO的光学带隙值为2.55 eV，随掺杂浓度的增加而增大，在掺杂4%时达到最大值2.65 eV。在掺杂率为4wt%时，本研究获得的低电阻率为0.9×10-³(Ù.cm)。