文摘
SEM研究钻石薄膜由HF-CVD方法
作者(年代):Nabeel。巴克尔的项目中。Kamil1, Abdulsamee F.Abdulaziz金刚石薄膜的结构和表面形态生长在(100)单晶硅基片byHF-CVD技术usingH2: CH4气体混合物(100:1 sccm)报道。金刚石薄膜的扫描electronmicroscopy、x射线衍射和拉曼光谱。衬底预处理的影响上沉积金刚石薄膜的表面形态和结构了。沉积金刚石薄膜的SEM显微图没有任何衬底预处理被发现由分散金刚石核的直径约5µm或少cubo-octahedral形状,明显表现出(100)和(111)面金刚石latticewhich并不显著的集群。随着预处理时间增加到20分钟金刚石核生长在数量和集群开始主导和二次成核的信号消失。30分钟后预处理的基质沉积薄膜的显微图显示,这部电影是连续和很好地在上雕琢平面的展示主要(111)表面形态。成功尝试了将硼的容易和简单的方法沉积金刚石薄膜。发现存在硼介绍cauli-flower钻石微晶在微米尺度类型特征。
