摘要

PMDA-6FHP-NLO聚酰亚胺/ SiO2的制备及其光电性能

作者(年代):达竹林，邱凤贤，杨东雅，朱福红

采用溶胶-凝胶法制备了透明非线性光学(NLO)无机/有机(聚酰亚胺/二氧化硅)杂化复合材料。杂化膜中二氧化硅含量在0 ~ 22.5/wt%之间变化。采用ir、UV-Vis、热重分析(TGA)、x射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)和透射电镜(TEM)对所制备的PI杂化物进行了表征。它们具有相当好的光学透明度。sio2相很好地分散在聚合物基体中。DSC和tga结果表明，这些杂化材料具有良好的热稳定性。聚合物溶液可以自旋镀膜在铟锡氧化物(ITO)玻璃上形成光学质量的薄膜。聚合物薄膜在832 nm波长处的电光系数(ï§33)在20-30pm/V范围内。