文摘

光学研究硒依赖热退火的电影

作者(年代):嗜Joraid

两种类型的Se电影被热蒸发沉积在玻璃基板技术。薄膜的厚度393和652海里并沉积了厚膜厚度2642海里。一系列的退火温度从323到373 K是用于电影652纳米的厚度。x射线衍射(XRD)调查显示晶体的发展阶段退火温度达到347 K的转变温度。退火的影响被研究了形态学的样品用扫描电子显微镜(SEM)和原子力显微镜(AFM)。折射率,n,是依赖于退火温度和膜厚度。光学吸收的机制是直接和间接转换。Egi,间接和直接,还,光学带隙被发现近常数随着退火温度,其次是大幅减少后的转变温度347 K。Egi和还被发现依赖于膜厚度。