摘要

多通道场效应异质晶体管制造的优化

作者(年代):E.L.Pankratov, E.A.Bulaeva

本文介绍了一种多通道场效应异质晶体管的制备方法。该方法基于制造具有所需配置的异质结构，通过扩散或离子注入对异质结构的所需区域进行掺杂，并优化掺杂剂和/或辐射缺陷的退火。我们考虑了最近引入的框架优化方法。同时介绍了一种分析掺杂剂再分布和辐射缺陷的方法。该方法使我们有可能为优化掺杂剂和/或辐射缺陷的退火提出建议。