摘要 多孔硅上电化学沉积铜膜的微观结构 作者(年代):周福芳,翟宝改,黄元明 在氯化铜水溶液中,金属铜薄膜被电化学沉积在多孔硅的粗糙表面上。利用扫描电子显微镜对电化学沉积多孔硅膜的表面形貌进行了表征,并对电化学沉积在多孔硅上的铜膜的微观结构进行了研究。定量分析表明,电化学沉积可以使多孔硅膜表面光滑。根据电化学沉积的条件,在多孔硅膜的微孔中可以生长出微米级的铜柱、铜芽和铜柱,而在沉积的铜晶体的光滑床上可以观察到微米级的铜三角形、铜海藻和铜花。 分享这