摘要

材料科学2020:六方氮化硼纳米片氟化的新机械化学合成路线- Aqrabul Ahmad-大连理工大学，中国

作者(年代):Aqrabul艾哈迈德

本文提出了一种简单的、两步的机械化学路线去角质和氟化六方氮化硼纳米片(BNNSs)。研究了氟(F)化学吸附对BNNSs光磁性能的影响。实验观察到，随着氟浓度的增加，带隙由~5 eV降低到4.17 eV，饱和磁化强度和矫顽力分别达到1.8322x10-3 emu/g和157.25Oe。此外，结果有力地支持了在合成过程中，不同数量的少数原子层与氟原子对氟化的吸附有直接关系。此外，与N-F键相比，硼缺陷位点在热力学上最稳定，有利于氟吸附形成稳定的B-F键。考虑到h-BN纳米结构中各种可能的氟基缺陷，这些观察结果还得到了理论计算的支持。因此，通过氟化使BNNSs具有室温弱铁磁稀释磁半导体行为的窄光学带隙将扩大其在磁性、电子和纳米器件设计/制造中的应用。关键词:BNNSs;表皮脱落;球磨;氟化和带隙计算。