摘要

生长温度对脉冲激光沉积MoO3薄膜光学性能的影响

作者(年代):c.m.朱利安，C.V.拉玛纳，O.M.侯赛因

本文研究了生长温度对MoO3薄膜光学性能的影响。采用脉冲激光沉积(PLD)技术在303 ~ 773 K的生长温度范围内制备了MoO3薄膜，并研究了其结构和光学特性。研究发现，生长温度对PLD MoO3薄膜的表面形貌、局部原子结构和光学性能有显著影响。研究发现，在673 K左右的温度下，成分稳定性可以很好地保持，在这一点上，成分缺陷的形成引入了结构无序和光学特性的变化。在高温下生长的MoO3薄膜的光学带隙的减小与外部形貌的变化有关，主要归因于结构转变和氧空位的形成。