文摘

设计和施工的双相脉冲直流磁控溅射系统供电

作者(年代):Tosawat Seetawan, Weerasak Somkhunthot, Thanusit Burinprakhon,伊恩•托马斯Vittaya Amornkitbamrung

双极脉冲直流电源设计和建造了用于薄膜的磁控溅射系统和合成。电源由三个主要部分:(1)两个高压直流(dc)电源利用功率输出的相位控制电路,(2)脉冲发生器和两个功率开关电路,和(3)反馈电路的电流和电压控制、显示和安全措施。一个高水平的安全操作,雇用的光连接电路设计低和高压部件之间的隔离。所构造的电源测试使用一个测试负载组成的十个100 W 250 v与钨灯丝灯泡串联连接。发现电源能够提供对称或不对称脉冲直流电源的最大峰电压1250 V。正面和负面的脉冲宽度是10 - 100之间选择我年代,25千赫的最大脉冲频率。这个频率限制是由于有限的速度功率晶体管使用的功率开关电路在高压下操作。预计所构造的电源可以用作磁控溅射系统中等离子发生器等氧化物薄膜的沉积氧化铝,NaxCo2O4,伊藤和氧化锌。这将进一步调查。